Thetametrisis膜厚測量儀

簡要描述：Thetametrisis膜厚測量儀FR-pRo是一個模塊化和可擴展平臺的光學測量設備，用于表征厚度范圍為1nm-1mm 的涂層。

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膜厚測量儀是一種用于測量薄膜、涂層或其它薄層材料厚度的儀器。膜厚測量儀通常采用不同的工作原理和技術來實現準確的厚度測量，常見的膜厚測量儀包括：

1、X射線熒光測厚儀：利用X射線照射樣品表面，通過測量熒光光譜來確定薄膜厚度。

2、聲表面波測量儀：利用超聲波在薄膜表面傳播的特性來測量薄膜厚度。

3、光學干涉儀：利用光學干涉原理測量薄膜的厚度，常見的有白光干涉儀和激光干涉儀。

4、磁感應測厚儀：通過測量磁感應信號來確定薄膜或涂層的厚度。

膜厚測量儀在工業生產、材料研發、電子設備制造等領域廣泛應用，可幫助用戶準確測量和控制薄膜的厚度，確保產品質量和性能。使用膜厚測量儀時，需要根據實際情況選擇適合的儀器和測量方法，并注意儀器的操作規范和安全注意事項。

Thetametrisis膜厚測量儀FR-pRo概述：

FR-pRo膜厚儀: 按需搭建的薄膜特性表征工具。

FR-pRo膜厚儀是一個模塊化和可擴展平臺的光學測量設備，用于表征厚度范圍為1nm-1mm 的涂層。

FR-pRo膜厚儀是為客戶量身定制的，并廣泛應用于各種不同的應用。

比如：

吸收率/透射率/反射率測量，薄膜特性在溫度和環境控制下甚至在液體環境下的表征等等…

Thetametrisis膜厚測量儀FR-pRo應用：

1、大學&研究實驗室

2、半導體行業

3、高分子聚合物&阻抗表征

4、電介質特性表征

5、生物醫學

6、硬涂層，陽極氧化，金屬零件加工

7、光學鍍膜

8、非金屬薄膜等等…

FR-pRo膜厚儀可由用戶按需選擇裝配模塊，核心部件包括光源，光譜儀（適用于 200nm-2500nm 內的任何光譜系統）和控制單元，電子通訊模塊。

此外，還有各種各種配件，比如:

1.用于測量吸收率/透射率和化學濃度的薄膜/試管架；

2.用于表征涂層特性的薄膜厚度工具；

3.用于控制溫度或液體環境下測量的加熱裝置或液體試劑盒；

4.漫反射和全反射積分球。

通過不同模塊組合，蕞終的配置可以滿足任何終端用戶的需求。

工作原理：

白光反射光譜(WLRS)是測量垂直于樣品表面的某一波段的入射光，在經多層或單層薄膜反射后，經界面干涉產生的反射光譜可確定單層或多層薄膜（透明，半透明或全反射襯底）的厚度及 N*K 光學常數。

* 規格如有更改，恕不另行通知；厚度測量范圍即代表光譜范圍，是基于在高反射襯底折射率為 1.5 的單層膜測量厚度。

Specificatins 規格：

電腦	19 英寸屏幕的筆記本電腦/觸摸屏電腦
聚焦模塊	光學聚焦模塊安裝在反射探頭上，光斑尺寸＜100um
薄膜/比色皿容器	在標準器皿中對薄膜或液體的透射率測量
接觸式探頭	用于涂層厚度測量和光學測量的配件，適用于彎曲表面和曲面樣品
顯微鏡	用于高橫向分辨率的反射率及厚度顯微測量
Scanner (motorized)	帶有圓晶卡盤的Polar（R-Θ）或 Cartesian（X-Y）自動化樣品臺可選，Polar（R-Θ）樣品臺支持反射率測量，Cartesian（X-Y）樣品臺支持反射率和透射率測量
積分球	用于表征涂層和表面的鏡面反射和漫反射
手動 X-Y 樣品臺	測量面積為 100mmx100mm 或 200mmx200mm 的x - y 手動平臺
加熱模塊	嵌入FR-tool 中，范圍由室溫~200oC，通過FR-Monitor 運行可編程溫控器(0.1 oC 精度).
液體模塊	聚四氟乙烯容器，用于通過石英光學窗口測量在液體中的樣品。樣品夾具，用于將樣品插入可處理 30mmx30mm 樣品的液體中
流通池	液體中吸光率、微量熒光測量