當前位置：首頁 > 技術文章
在半導體制造與微電子領域，晶圓表面涂層厚度的精確控制直接決定了器件性能與良率。傳統膜厚測量方法依賴人工取樣或離線檢測，存在效率低、破壞性、數據片面性等痛點。而光學膜厚儀憑借其非接觸、高精度、全自動化測繪能力，已成為晶圓涂層厚度檢測的核心工具...
光學膜厚儀作為現代材料科學中至關重要的精密測量工具，其核心原理基于光的干涉現象與薄膜光學特性。當一束光波照射至透明或半透明薄膜表面時，部分光在膜層上表面反射，另一部分穿透膜層后在下表面反射，兩束反射光因光程差產生干涉現象。通過分析干涉圖樣的光強分布與相位變化，可精確推導出薄膜的物理厚度與光學參數。一、干涉原理的數學表達干涉現象的本質是光波的相位疊加。當兩束反射光的光程差為波長的整數倍時，發生建設性干涉，光強達到極大值；當光程差為半波長的奇數倍時，發生破壞性干涉，光強降至最小值...
在柔性電子、半導體制造及新能源材料研發領域，薄膜電阻的精確測量是評估材料性能的核心指標。Delcom20J3STAGE薄膜電阻測量儀憑借其非接觸式渦流技術、高精度傳感器及智能化軟件系統，成為行業實驗室與產線的關鍵設備。以下從操作流程、核心功能及行業應用三個維度，解析其高效使用方法。一、設備安裝與基礎配置1.機械結構組裝儀器臺采用13毫米聚甲醛樹脂與鋁支架制成，尺寸為55×47×8cm，重量10kg。安裝時需將傳感器固定于儀器臺下方平臺，通過兩個螺釘完成快速定位。臺面提供46×...
光學顯微鏡適配器通過多通道光路設計、智能濾光片切換系統及環境光控制技術，有效破解熒光與明場成像沖突，實現兩種觀察方式的無縫切換與高質量成像，具體分析如下：多通道光路設計：獨立傳輸與干擾隔離適配器采用分光棱鏡與可調濾光片模塊，構建獨立的光路傳輸通道。熒光激發光（如488nm激光）與明場照明光通過不同路徑傳輸，避免光路串擾。例如，在活細胞動態觀測中，適配器可同時獲取細胞形態（明場）與分子標記（熒光）信息，且兩種信號互不干擾，成像清晰度顯著提升。智能濾光片切換系統：快速響應與精準匹...
在半導體制造中，晶圓表面缺陷與焊點質量檢測是保障芯片良率與可靠性的核心環節。前者聚焦于納米級表面完整性，后者則關乎封裝結構的電學與機械穩定性。兩者通過光學、聲學及人工智能技術的深度融合，構建起從晶圓制造到封裝測試的全流程質量防線。一、晶圓表面缺陷檢測：納米級精度的“顯微獵手”晶圓表面缺陷檢測需覆蓋顆粒污染、劃痕、晶格畸變及薄膜厚度異常等微米/納米級缺陷。主流技術包括：1.明暗場光學檢測：通過激光束掃描晶圓表面，利用反射光強差異識別缺陷。例如，KLA-Tencor的2930系列...
主動減震臺作為高精度儀器的核心支撐系統，通過集成傳感器、控制器與執行器，構建實時動態補償網絡，可有效抑制地面振動對設備的影響（振動衰減率＞90%，頻率響應范圍0.5-200Hz）。其核心技術突破傳統被動減震的單一阻尼機制，通過智能算法實現毫秒級響應，為半導體制造、光學檢測等領域提供納米級穩定性保障。一、核心架構：感知-決策-執行的三級聯動系統1.高精度振動感知層：采用壓電陶瓷加速度計或激光干涉儀，以10kHz采樣率實時監測臺面三軸（X/Y/Z）振動位移、速度與加速度，精度可達...